随着我国电子信息产业的飞速发展，我国已逐渐成为高端铝靶需求最大地区之一，中国的铝靶市场正日益扩大，其增速高于全球增速，在全球市场中所占份额逐渐提升。2016 年国内半导体用溅射铝靶市场规模突破 14 亿元，国内高纯溅射铝靶市场规模年复合增长率高达 13%。但目前中国利用传统方法制造的铝靶与国外高端铝靶质量和性能还存在较大差距，国内大量高端铝靶还需从国外进口。利用冷喷涂技术替代熔铸和热喷涂方法制备的铝靶具有均质稳定，致密，形状任意，结合强度高，晶粒细小等特点，可大幅度提高铝靶尺寸与性能，可避免溅射过程中的异常放电，镀膜更加均匀，大大地提升了靶材质量和寿命。
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